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中国国家队出手入局光刻机 20年前就已经悄然行动

芯片一直是中国的技术短板,但只能说是这几年的短板了,这一次国家队出手,入局光刻机!抱着必胜的信念。

或许是因为华为的原因,人们逐渐开始关注到芯片这个不经常见到的小东西,同时也开始了解到,芯片能够被应用到各种终端的电子产品上,是经过了很多复杂的过程,仅生产制造一个环节,就足以令我们眼花缭乱。

然而随着人们认知程度的提高,也已经知道,芯片生产制造中,一个关键环节就是光刻环节,其中就涉及到了关键设备光刻机,这或许就是大部分人能够了解到的最多情况。

我们知道,近日中科院正式宣布了,要开始进入光刻机领域,做到在国际上占有一席之地,既然确定了这样的目标,那么所要研发的光刻机,就应该是EUV光刻机。

很多人可能还不了解,目前光刻机主要是分为EUV光刻机和DUV光刻机,前者采用极紫外光刻技术,后者采用深紫外光刻技术,EUV是已经被确定的,用于制造先进工艺芯片的光刻机发展方向。

就在近日,中科院长春光机所宣布,长春光机所作为依托单位获批建设“中国科学院精密光电制造技术工程实验室”。

然而这里的实验室并非我们常规理解的实验室,也并不代表着对某些技术研发的开始,事实上正相反,是推进相关领域科技成果转移转化的平台。

很显然,中科院长春光机所将成为中科院发展光刻机的幕后英雄,事实上,长春光机所早在20年前就开始了对EUV技术的探索。

自上世纪90年代起,长春光机所就开始专注于EUV/X射线成像技术研究,着重开展了EUV光源、EUV多层膜及相关EUV成像技术研究,形成了极紫外光学的应用技术基础。

可以说这个时间与国际上开始对EUV技术的研究时间处在相同的水平,在之后的2002年,长春光机所就已经研制出国内第一套EUV光刻原理装置,实现了EUV光刻的原理性贯通。

然而就在三年前,长春光机所承担的国家科技重大专项项目,“极紫外光刻关键技术研究”顺利通过验收。

中科院微电子研究所所长叶甜春表示,长春光机所光刻机队伍是承担最核心、最高端、最艰苦任务的队伍,也是专项团队中最有战斗力、最能抗压、最值得信任的主力部队。

就在当时,我国科技部原副部长曹健林,作为国内熟悉EUV光刻的领域专家之一,其表示,30年前的“中国光刻梦”正在逐步变为现实。

所以我们看到,中科院虽然是刚刚才如此正式的宣布要攻破光刻机,但对光刻机的布局其实已经有了近三十年的历史,这就像之前任正非所说的:我们有准备,不是说说而已。

可以说,这句话用在中科院身上非常合适,我们不是说说而已,而是有着充足的准备。

而且想必也已经有朋友了解到,在今年的七月份,中科院苏州纳米所,推出了一种新型5nm超高精度激光光刻加工方法。

所以整体来看,中科院在光刻机,尤其是目前最先进的EUV光刻技术领域,有着二十多年的技术积累,目前已经开始走向成果转化,用中科院白院长的话说,就是解决一批“卡脖子”的问题。

当然,极紫外光刻技术难度如此之外,长春光机所是“极紫外光刻关键技术研究”项目的牵头单位,成员单位还包括像北京理工大学、哈尔滨工业大学、华中科技大学这样的大学机构。

可以说,他们都是我国实现EUV光刻机伟大理想的幕后英雄,也可以说,我们对中科院对光刻机的攻坚充满了信心,相信这一天的到来不会远了,我们拭目以待。

在大多数人的想法里,这一次国家队都出手了,事情应该是妥妥没有问题了,相信不用多久,也许就这么两三年我么就能收到成功的消息。

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